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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

蘇州芯矽電子科技有限公司


經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:19條

所在地區(qū):江蘇蘇州市

聯(lián)系人:芯矽電子 (客服)

  • 槽式清洗機

    詳細摘要: 槽式清洗機是一種用于批量清洗物品的自動化設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光學(xué)等領(lǐng)域。它通過將待清洗物品放入盛有特定化學(xué)試劑的槽中,利用超聲波在液體中的空化作用產(chǎn)生...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-13 在線留言

  • SPM腐蝕清洗機

    詳細摘要: SPM腐蝕清洗機是半導(dǎo)體制造中去除晶圓表面有機物及金屬污染的核心設(shè)備,通過硫酸與雙氧水混合液(SPM)的強氧化性實現(xiàn)高效腐蝕清洗。其關(guān)鍵功能包括光刻膠剝離、金屬...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 單晶圓濕法清洗機

    詳細摘要: 單晶圓濕法清洗機是半導(dǎo)體制造中用于單片晶圓表面清潔的關(guān)鍵設(shè)備,通過化學(xué)溶液(如SC-1、DHF等)結(jié)合兆聲波、超聲波等物理技術(shù),高效去除有機物、金屬污染及顆粒殘...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 半導(dǎo)體硅片清洗機

    詳細摘要: 半導(dǎo)體硅片清洗機是芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備,用于去除晶圓表面污染物(如顆粒、有機物、金屬殘留),確保高精度工藝良率。其核心采用濕法化學(xué)清洗(如RCA工藝)結(jié)合兆聲波...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 單晶圓濕法清洗設(shè)備

    詳細摘要: 單晶圓濕法清洗設(shè)備,專為高精度芯片制造設(shè)計。它采用濕法工藝,能精準去除晶圓表面雜質(zhì)與污染物。具備高清洗均勻性,確保晶圓各區(qū)域潔凈度一致。自動化程度高,操作便捷,...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 晶圓單片清洗機

    詳細摘要: 晶圓單片清洗機是半導(dǎo)體制造中用于單片晶圓表面污染物(顆粒、有機物、金屬離子等)去除的高精密設(shè)備,通過逐片獨立處理避免交叉污染,適用于制程節(jié)點。其核心技術(shù)包括伯努...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-08 在線留言

  • wafer清洗機

    詳細摘要: Wafer清洗機是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物(顆粒、有機物、金屬雜質(zhì)等)的關(guān)鍵設(shè)備,通過物理、化學(xué)或機械原理實現(xiàn)高潔凈度清洗。其主要技術(shù)包括超聲波清洗(...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-08 在線留言

  • 半導(dǎo)體濕法設(shè)備 化學(xué)腐蝕 超聲波

    詳細摘要: 半導(dǎo)體濕法設(shè)備是晶圓制造、封裝及器件加工中的關(guān)鍵工藝設(shè)備,通過化學(xué)腐蝕、電化學(xué)處理、超聲波空化、流體沖洗等技術(shù),實現(xiàn)納米級潔凈度與微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控。其核心在于精準控...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-07 在線留言

  • 邊拋后清洗機(EPC)

    詳細摘要: 邊拋后清洗機是半導(dǎo)體、光學(xué)及精密制造關(guān)鍵設(shè)備,通過濕/干法去除拋光殘留。核心流程含化學(xué)去氧化、兆聲波剝離、超純水沖洗及真空干燥,在Class 10環(huán)境下完成。支...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-07 在線留言

  • SPM全自動超聲清洗機

    詳細摘要: SPM全自動超聲清洗機是半導(dǎo)體制造中用于高效清潔精密部件的關(guān)鍵設(shè)備,通過超聲波空化效應(yīng)結(jié)合化學(xué)溶劑(如硫酸、過氧化氫等)去除硅片、光罩、石英件等表面的微粒、金屬...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言

  • EPI零部件清洗機

    詳細摘要: EPI零部件清洗機是半導(dǎo)體制造中用于清潔外延生長設(shè)備關(guān)鍵部件的專用設(shè)備。其通過超聲波、化學(xué)或等離子清洗技術(shù),高效去除零部件表面的微粒、金屬污染及殘留物,確保外延...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言

  • 全自動光罩清洗設(shè)備

    詳細摘要: 全自動光罩清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備,用于高效去除光罩表面污染物。其通過超聲波、化學(xué)清洗或等離子體技術(shù),精準清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質(zhì),確保光罩圖...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言

  • 硅片最終清洗設(shè)備

    詳細摘要: 硅片最終清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝設(shè)備,用于去除硅片表面雜質(zhì)、顆粒及殘留物。它通過化學(xué)或物理清洗方式,確保硅片表面潔凈度達標準,以滿足芯片制造的嚴苛要求。設(shè)備...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言

  • 酸孔蝕刻機_濕法刻蝕機

    詳細摘要: 具備高度均勻的蝕刻能力,可精確控制孔的深度、直徑等參數(shù)。其蝕刻過程穩(wěn)定,能保證孔壁的光滑度和垂直度。通過流體力學(xué)設(shè)計和控制系統(tǒng),適應(yīng)不同工藝需求,確保蝕刻效果的...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-03-07 在線留言

  • CMP預(yù)清洗機

    詳細摘要: CMP預(yù)清洗機是一種用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的專業(yè)設(shè)備。在化學(xué)機械拋光(CMP)工藝前,它發(fā)揮著關(guān)鍵作用。其能有效去除半導(dǎo)體硅片、晶圓等表面的污垢、雜質(zhì)及殘留物,為后...

    產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-03-07 在線留言

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